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合作單位：**研究院**中心
清洗工件：大尺寸K玻璃光學(xué)元件
設(shè)備名稱：十二槽超聲波清洗設(shè)備

設(shè)備整體集成了完整的清洗、漂洗、干燥及輔助系統(tǒng)，涵蓋超聲波清洗、噴淋清洗、超聲漂洗、慢拉、紅外熱風(fēng)循環(huán)干燥、真空干燥、循環(huán)過濾系統(tǒng)、自動機(jī)械臂、拋動機(jī)構(gòu)、上下料推車、PLC程序控制系統(tǒng)、FFU凈化系統(tǒng)、抽風(fēng)裝置、預(yù)熱水箱等核心部件，實(shí)現(xiàn)從工件上料、清洗、漂洗到干燥、下料的全自動化流程，大幅提升清洗效率。

一、超聲波清洗配置
清洗槽（堿性清洗劑）
配備7頻復(fù)頻超聲波清洗，通過不同頻率的協(xié)同，形成更均勻的空化，確保清洗均勻性的同時保護(hù)光學(xué)元件表面潔凈度。
清洗槽（中性清洗劑）
配備高頻兆聲波清洗，可實(shí)現(xiàn)分子層級別的精密清洗，能夠有效去除光學(xué)元件表面附著的亞微米級顆粒雜質(zhì)。
超聲波漂洗槽
設(shè)5個超聲波漂洗槽，依次配備中高頻到高頻超聲波清洗，通過梯度頻率的漂洗工藝，逐步去除光學(xué)元件表面殘留的清洗液和微小雜質(zhì)，滿足科研級高潔凈度的清洗要求。

二、多尺寸兼容設(shè)計
針對多尺寸清洗需求，進(jìn)行了適配設(shè)計，可輕松清洗800*440*85mm的大尺寸K玻璃光學(xué)元件，同時兼容其他中小型光學(xué)元件，靈活性強(qiáng)，滿足不同玻璃元件的清洗需求

三、輔助系統(tǒng)和功能
除核心清洗工藝外，設(shè)備配套各類輔助功能進(jìn)一步保障清洗效果和操作便捷性，包括FFU進(jìn)化系統(tǒng)、循環(huán)過濾系統(tǒng)、PLC控制系統(tǒng)、自動化機(jī)械臂與拋動機(jī)構(gòu)等。另外，采用紅外熱風(fēng)干燥和真空干燥組合，可快速去除光學(xué)元件表面水分，避免水印殘留，確保清洗后表面干燥潔凈。

合作成效
該套大尺寸K玻璃光學(xué)元件超聲波清洗設(shè)備投入使用后，完美解決了清洗痛點(diǎn)，取得了顯著效果，具體如下：

通過多頻率協(xié)同清洗工藝，徹底去除了K玻璃光學(xué)元件表面的拋光粉、油污、微小顆粒等雜質(zhì)，實(shí)現(xiàn)表面無大于0.5μm顆粒、無有機(jī)污染且接觸角≤5°，清洗后元件表面潔凈度達(dá)到科研級標(biāo)準(zhǔn)，無劃痕、無蝕坑、無水印殘留，有效保障了元件的光學(xué)性能。